一、半导体光刻胶分类
伴随着光刻工艺的不断发展，光刻用化学品也在飞速发展，主要的光刻用化学品包括有光刻胶、抗反射层、溶剂、显影液、清洗液等。在这些化学品中，光刻胶凭借其复杂且精准的成分组成具有最高的价值，也是整个半导体制造工艺中最为关键的材料之一，有着“半导体材料皇冠上的明珠”之称。
半导体光刻胶的分类
资料来源：公开资料整理
对于半导体光刻胶的分类有多种标准，常用的分类标准包括有：（1）以曝光后光刻胶在显影液中的溶解度变化分为正性光刻胶和负性光刻胶；（2）针对正性光刻胶以是否使用化学放大（ChemicallyAmplified）机制可分为化学放大型光刻胶和非化学放大型光刻胶；（3）以所使用的光刻工艺可分为紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子束光刻胶等。
不同曝光光源分类下半导体光刻胶的典型组成成分（树脂与光敏剂）
资料来源：公开资料整理
二、中国半导体光刻胶行业市场规模
光刻胶最终应用于半导体集成电路、平板显示器、印刷电路板（PCB）等领域中，生产难度依次减弱。PCB光刻胶壁垒相对较低，而半导体光刻胶代表着光刻胶技术最先进水平。据统计，我国2015年半导体光刻胶市场约为17.8亿元，而至2020年中国半导体光刻胶市场整体已经增长至约27.4亿元，且至2021年有望达到整体31亿人民币的市场规模。
2015-2021年我国半导体光刻胶市场规模及增速
资料来源：《中国半导体支撑业发展状况报告》，华经产业研究院整理
相关报告：华经产业研究院发布的《2022-2027年中国半导体光刻胶行业发展前景及投资战略咨询报告》
三、半导体光刻胶行业竞争格局分析
全球光刻胶行业主要被JSR、东京应化、罗门哈斯、信越化学、及富士电子材料占据，前五大家占据了全球光刻胶领域的86%；如若聚焦到全球半导体用光刻胶领域，前六大家（主要以日本为主）实现了对于市场的87%的占据。
全球半导体光刻胶市占率情况（单位：%）
资料来源：国际半导体产业协会，华经产业研究院整理
在半导体材料中，光刻胶因技术复杂、纯度要求高而面临艰难的国产化之路，但经历多年的研发，目前已有部分上市公司掌握了生产技术，主要包括晶瑞电子材料股份有限公司、江苏雅克科技股份有限公司、江阴江化微电子材料股份有限公司、深圳市容大感光科技股份有限公司等：
中国半导体材料光刻胶相关上市公司简介
资料来源：各公司公告，华经产业研究院整理
整体来看，中国上市公司的光刻胶相关业务营收规模较小，从2020年光刻胶相关业务的营业收入来看，强力新材和雅克科技的营收规模相对较大，均超过5亿元。中国的光刻胶相关产品目前仍大部分依赖进口，2019-2021年间我国半导体晶圆代工的产能增速迅猛，中国大陆半导体光刻胶市场需求旺盛，我国半导体光刻胶国产替代进程加速。
2020年中国半导体材料光刻胶相关上市公司业绩对比
资料来源：各公司公告，华经产业研究院整理
国内市场北京科华、苏州瑞红、南大广电、上海新阳、博康等国内企业在2021年取得突破，有望在2022年加速成长。
2021年国内主要半导体光刻胶项目进展
四、中国半导体光刻胶行业发展趋势
伴随全球半导体产业东移，加上我国持续增长的下游需求和政策支持力度。同时，国内晶圆厂进入投产高峰期，由于半导体光刻胶与下游晶圆厂具有伴生性特点，国内光刻胶厂商将直接受益于晶圆厂制造产能的大幅扩张。当前我国高端光刻胶与全球先进水平有近40年的差距，半导体国产化的大趋势下，国内企业有望逐步突破与国内集成电路制造工艺相匹配的光刻胶，所以必须要对光刻胶足够的重视，不断向日本和欧美等发达国家学习，努力开发出性能优异的国产光刻胶，使我国在未来的市场中占据一席之地。
华经产业研究院通过对中国半导体光刻胶行业海量数据的搜集、整理、加工，全面剖析行业总体市场容量、竞争格局、市场供需现状及行业重点企业的产销运营分析，并根据行业发展轨迹及影响因素，对行业未来的发展趋势进行预测。帮助企业了解行业当前发展动向，把握市场机会，做出正确投资决策。更多详细内容，请关注华经产业研究院出版的《2021-2026年中国半导体光刻胶市场调查研究及行业投资潜力预测报告》。
