2023年全球光刻机行业发展现状及竞争格局分析,国内光刻机市场正在国家政策的支持下飞速发展「图」

一、光刻机产业概述

1、光刻机的定义及分类

芯片生产主要包括沉积、光刻、蚀刻等7个步骤,其中光刻为核心步骤之一,主要负责把芯片设计图案通过光学显影技术转移到芯片表面,进而实现在半导体晶片表面上制造微小结构。光刻机生产具备高技术门槛,需要高度精密的物理设备和严格的控制流程,以达到所需的制造精度。而先进的芯片制程工艺需要先进的、高分辨率的光刻机进行适配,因此光刻机直接影响芯片的工艺制程与性能。

光刻机的分类

2、光刻机技术演进历程

光刻机的技术演进主要分为以下几个阶段:UV光刻机、干式DUV光刻机、浸入式DUV光刻机、Low-NAEUV光刻机和High-NAEUV光刻机。其中,浸入式DUV光刻机通过把物镜与晶圆之间的填充由空气改变为水,进而获得更高的数值孔径(NA),使光刻机具有更高的分辨率与成像能力。目前High-NAEUV光刻机的技术由阿斯麦公司研发中,阿斯麦预计在2025年实现出货。

光刻机技术演进历程

二、光刻机行业发展相关背景

直到2002年,国家开始重视光刻机的研发,如今中国在逐步缩小和国际光刻机巨头的差距。目前国内光刻机市场规模较小,但是随着国家政策的支持和技术水平的提高,中国光刻机市场具有很大的发展潜力。

光刻机行业发展相关政策

相关报告:华经产业研究院发布的《2023-2028年中国光刻机行业市场全景评估及投资战略规划研究报告

三、光刻机行业产业链

1、光刻机行业产业链示意图

从光刻机的产业链来看,上游主要为光刻机生产所需的零件、组件和设备等,光刻机涉及的内部零件种类众多,且越高端的光刻机组成越复杂,如EUV内部零件多达8万件以上,其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等,其中光源、晶圆曝光台、物镜和对准系统的技术门槛较为显著。因此,光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点,而其下游应用主要包括芯片制造、功率器件制造、芯片封装等。

光刻机行业产业链示意图

2、光刻机行业下游应用分析

随着半导体市场规模不断扩大,半导体设备市场规模也将持续扩容。尽管2022年全球经济下滑明显,下游需求受到显著影响,半导体设备市场仍在增长,达到1076.4亿美元的规模。在半导体设备的蓬勃发展态势下,未来光刻机的发展空间也较为广阔。

2017-2022年全球半导体设备行业市场规模统计

四、全球光刻机行业现状分析

1、全球光刻机行业市场规模

光刻机市场前三大供应商占据了绝大多数市场份额,2018-2022年,三大供应商的光刻机营收合计由123亿美元增长至198亿美元,对应CAGR为13%。据预计2023年全球的光刻机市场规模将达到252亿美元,有大幅上升。

2018-2023年全球光刻机行业市场规模统计

2、全球光刻机销量

2017年至2022年期间,全球光刻机销量稳定提升。根据数据,2020年以来光刻机的销售额与销量稳定增长,2022年光刻机全球销量已达到510台,预计2023年该数据将持续增长至564台。

2017-2023年全球光刻机行业销量统计

3、全球光刻机销量结构

2022年全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主,ASML、Nikon和Canon的KrF、i-Line产品销量合计达394台,占比约71.5%;其次分别为ArFimmersio、Arfdry、EUV,占比分别为15.4%、5.8%及7.3%。其中,EUV是全球光刻机的重要发展方向之一,其价格远高于其他种类的光刻机。

2022年全球光刻机行业产品销量结构

五、光刻机行业竞争格局

1、光刻机行业竞争格局

全球光刻机市场的主要竞争公司为ASML、Nikon和Canon,其中ASML占据绝对霸主地位。2022年该三家厂商市场份额占比分别为82.14%、10.2%和7.65%,以ASML为首形成垄断格局。其中,超高端光刻机EUV领域中ASML独占鳌头,高端光刻机ArFi和ArFdry领域也主要由ASML占领,Canon主要集中在i-line光刻机领域,Nikon除EUV外均有涉及。

2022年全球光刻机行业企业竞争格局

2、光刻机行业重点企业营收

阿斯麦是全球唯一一家能够设计和制造EUV光刻机设备的公司,单台EUV光刻机市场售价超过1亿美元。尼康除EUV光刻机外波长均可覆盖,佳能主要集中在i-line和KrF光刻机。2022年阿斯麦、尼康和佳能的营业收入分别为227.7、38.7和289.1亿美元。

2021-2022年光刻机行业重点企业营业收入对比

六、光刻机行业未来发展趋势

据预计,2022年中国光刻机市场规模将达到27亿美元。上海微电子是国内主要的光刻机生产企业之一,其产品主要采用ArF、KrF和i-line光源,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求,28nm设备积极研发推进中,上海微电子自主研发的600系列光刻机已经突破了外国光刻机卡脖子,可批量生产90nm工艺的芯片。此外,还有北京华卓精科科技股份有限公司、北京科益虹源光电技术有限公司等,国内光刻机市场正在国家政策的支持下飞速发展。

华经产业研究院对中国光刻机行业发展现状、市场供需情况等进行了详细分析,对行业上下游产业链、企业竞争格局等进行了深入剖析,最大限度地降低企业投资风险与经营成本,提高企业竞争力;并运用多种数据分析技术,对行业发展趋势进行预测,以便企业能及时抢占市场先机;更多详细内容,请关注华经产业研究院出版的《2023-2028年中国光刻机行业市场深度分析及投资潜力预测报告》。

本文采编:CY1262

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