2020年全球及中国涂胶显影设备行业发展现状及市场竞争格局分析,中国成为最大消费增长国「图」

一、涂胶显影设备综述

涂胶显影设备(又称 Track 或 Coater&Developer)是与光刻机配合进行作业的关键处理设备,主要负责涂胶、烘烤及显影。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中,此类设备往往单独使用(Off Line)。随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产能要求的不断提升,在200mm(8英寸)及以上的大型生产线上,此类设备一般都与光刻设备联机作业(In Line),组成配套的圆片处理与光刻生产线,与光刻机配合完成精细的光刻工艺流程。涂胶显影设备会直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成,是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。

涂胶显影和喷胶设备介绍

涂胶显影和喷胶设备介绍

资料来源:公开资料整理

二、光刻工艺中的涂胶显影

涂胶/显影机作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影),主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理,从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程。其直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成,从而影响后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果,因而涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。

光刻工艺中的涂胶显影

光刻工艺中的涂胶显影

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相关报告:华经产业研究院发布的《2021-2026年中国半导体设备制造行业投资分析及发展战略咨询报告

三、涂胶显影设备行业发展现状

显影的精度即为光刻的精度,因此涂胶显影设备对关键制程的形成也十分重要。除了前道的EUV光刻带来的高端增量以外,相对低端后道封测、LED制造等用的涂胶显影设备也存在市场增量。从全球市场来看,据统计2020年全球前道涂胶显影设备行业市场规模为19.05亿美元,后道涂胶显影设备行业市场规模为0.81亿元,市场基本保持稳定增长。

2019-2023年全球涂胶显影设备行业市场规模情况

2019-2023年全球涂胶显影设备行业市场规模情况

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中国半导体市场规模需求增大,带动涂胶显影设备市场规模增长。从中国涂胶显影设备市场规模来看,据统计,2020年中国前道和后道涂胶摄影设备市场规模分别为7.55亿美元、0.59亿美元,全球份额保持在40%左右,中国大区是全球最重要的行业增长来源。

2019-2023年中国涂胶显影设备行业市场规模情况

2019-2023年中国涂胶显影设备行业市场规模情况

注:统计数据包含中国台湾地区。

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四、涂胶显影设备行业竞争格局

在全球光刻工序涂胶显影设备领域,据统计,2019年全球范围内日本东京电子(TEL)一家独大,市场份额接近87%,其他生产企业包括日本迪恩士(DNS)、德国苏斯微(SUSS)、台湾亿力鑫(ELS)、韩国CND等,国内生产企业主要是沈阳芯源微电子。

2019年全球涂胶显影行业市场竞争格局

2019年全球涂胶显影行业市场竞争格局

资料来源:公开资料整理

从中国大陆市场竞争格局来看,据统计,2019年中国大陆地区,市场份额被三家瓜分,分别是东京电子占比91%,DNS占比5%,国内企业芯源微占比4%,行业寡头效应明显,集中度高,国产替代空间巨大。

2019年中国大陆涂胶显影行业市场竞争格局

2019年中国大陆涂胶显影行业市场竞争格局

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芯源微前道涂胶显影设备已取得突破性进展。源微目前的主要产品为用于后道先进封装和LED制造等的涂胶显影设备,产品进入主流大客户;用于前道晶圆制造的涂胶显影设备已获得部分客户验证及批量订单,产品有发往上海华力、长江存储、中芯绍兴、上海积塔等多个客户验证。按照off line→I-line→KrF→ArF→ArFi的制程发展趋势,逐步实现前道涂胶显影设备向28nm及更高工艺制程的全覆盖。据统计,截止至2021.9.30,该公司获得前道设备新签订单金额约3.1亿元,未来新增前道设备订单将呈较快增长趋势。

国内企业芯源微技术进展

国内企业芯源微技术进展

资料来源:公司公开公告,华经产业研究院整理

华经产业研究院对中国涂胶显影设备行业发展现状、市场供需情况等进行了详细分析,对行业上下游产业链、企业竞争格局等进行了深入剖析,最大限度地降低企业投资风险与经营成本,提高企业竞争力;并运用多种数据分析技术,对行业发展趋势进行预测,以便企业能及时抢占市场先机;更多详细内容,请关注华经产业研究院出版的《2021-2026年中国半导体设备行业投资分析及发展战略研究咨询报告》。

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